OptoNano 超分辨光学显微系统，是以 PHAOS Optical Microsphere Nanoscopy (OMN)专利技术研制的超 分辨物镜与操作系统,结合常规光学显微镜平台开发制造的面向材料科学与工业应用的超分辨光学显微镜。 以 USAF 1951 标准(MIL-STD-150A) 分辨率标尺验证，配置 ONLENS-G2 超分辨物镜系统，可以实现在环境 空气中 137 纳米的分辨率成像。 

*ONLENS-G3 超分辨物镜系统，测试实现~100 纳米分辨率。预计 2022 年 3-4 季度量产

OptoNano200做为紧凑结构设计的通用机型，ON200配置透射光与 X/Y 6.5mm行程的载物台，兼顾适用部分需要 透射光观察的样品。ON200+在 ON200基础上，配置 X/Y 35mm行程的载物台，并扩展了可置样品高度到 30mm. 

ON200/ON200+载物台与物镜观察单元（Z轴）都由超高精度(1 μm/全程, 微进细分 1/250 Steps）电动驱动控制。